Enunciado
Ciência dos Materiais - Callister - Ciência e Engenharia de Materiais. Uma Introdução- Ed: 8º - Capítulo 5.Perguntas e Problemas - Ex. 32
Os átomos de fósforo devem ser difundidos em uma pastilha de silício usando tratamentos térmicos tanto de pré-deposição quanto de redistribuição. Sabe-se que a concentração de fundo de P neste material de silício é conhecida por ser 5 × 1019 átomos / m3. O tratamento pré-deposição deve ser conduzido a 950 ° C durante 45 minutos; a concentração de P na superfície deve ser mantido a um nível constante de 1,5 × 1026 átomos / m3. A difusão de redistribuição será conduzida a 1200 ° C por um período de 2,5 h. Para a difusão de P em Si, os valores de Qd e D0 são 3,40 eV e 1,1 × 10-4 m²/ s, respectivamente.
(a) Calcule o valor de Q0.
(b) Determine o valor de xj para o tratamento de redistribuição.
(c) Para o tratamento de redistribuição, calcule a posição x na qual a concentração de átomos de P é 1024 m-3
Passo 1
- Primeiramente antes de encontrarmos o valor de Q0, devemos determinar o valor de D, daí sim teremos todos os valores, e a fórmula é aquela nossa velha conhecida:
- Para determinarmos x para o tratamento de redistribuição é necessário novamente acharmos o D, dessa vez para a temperatura de 1200°C = 1473 k
- Para encontrarmos o resultado podemos usar a fórmula anterior:
Agora podemos achar o Q0:
Passo 2
Agora sim vamos achar “x”.
Passo 3
Resposta
a)
b)
c)