O desvio padrão da espessura de uma dimensão crítica na fabricação de semicondutores é σ - 20 n m

  1. Estabeleça as hipóteses nula e alternativa usadas para demonstrar que o desvio padrão reduzido.
  2. Considere que o teste prévio não rejeita hipótese nula. Esse resultado fornece evidência forte de que o desvio padrão não foi reduzido? Explique.

Passo 1

Letra a:

As hipóteses nula e alternativa usadas para demonstrar que o desvio padrão é reduzido são

H 0 : σ = 20 n m ,

H 1 : σ < 20 n m ,

Passo 2

Letra b:

Não.

A verdade ou falsidade de uma hipótese particular nunca pode ser conhecida com certeza, a menos que possamos examinar toda a população. Isso geralmente é impossível na maioria das situações práticas. Portanto, um procedimento de teste de hipótese deve ser desenvolvido com a probabilidade de se chegar a uma conclusão errada em mente.

Resposta

  1. H 0 :   σ = 20 n m ,   H 1 : σ < 20 n m
  2. Não
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